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主な研究設備  (まだ作成途中です)

電界紡糸(エレクトロスピニング)装置
MECC社製 NANON-05

強電界中で高分子を含んだ原料液を細いノズルから吐出することで,ナノメートルオーダーの直径を持つナノワイヤ(ナノファイバ)と,それからなる不織布状の薄膜を作製することができます.(科学研究費にて取得)

電界紡糸装置とその原理図

電界紡糸装置で作製した酸化チタンのナノワイヤからなる不織布の電子顕微鏡写真(左下は拡大図)

レーザー蒸着装置
(PLD; Pulsed Laser Deposition)もしくは,レーザーアブレーション装置 (Laser Ablation)

強力パルスレーザーをターゲットに照射し,瞬間的にターゲット物質を蒸発させ,ターゲットから放出された蒸気を基板上に析出させることで薄膜を作製する装置です.この現象をアブレーションとも呼び,液体中でアブレーションを起こすことで超微粒子を作製することもできます.

Nd:YAGレーザー

水晶発振式膜厚計

ターボ分子ポンプ

右手が Nd:YAGパルスレーザー,左手の丸いのが真空槽
右下:真空槽の内部でターゲットに当たった緑色のレーザー光
中下:緑色のレーザー光をカットするフィルタを通して見た発光
ターゲット物質の炎(プルーム)が見える.

アークプラズマガン

アーク放電によりプラズマを発生させ,発生した金属微粒子を堆積させ薄膜を作製する装置です. 成膜レートを放電パルス数で制御できるので,ナノメートルオーダーの極薄膜の作製が可能です.

直流マグネトロンスパッタリング装置

大容量直流電源


大気開放型 有機金属化学気相蒸着装置 (MO-CVD)


各種電気化学測定装置
疑似太陽光照射装置


磁場中物性測定装置

鉄心マグネット(最大磁場1 T)

広帯域ロックインアンプ


(作成中)
これ以外に,共同利用の分析機器を多数用いて研究を行っています.

X線回折装置(XRD),電界放出型走査顕微鏡(FE-SEM),元素分析装置(EDX),透過型電子顕微鏡(TEM),制限視野電子線回折(SAED),光電子分光装置(XPS; ESCA),ラマン分光装置,FTIR など
鹿児島大学大学院 理工学研究科 電気電子工学専攻
電子物性デバイス工学分野 堀江・野見山グループ
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